ThetaMetrisis 膜厚量測/鍍膜量測

FR-ES 光學非接觸式薄膜厚度量測儀

ThetaMetrisis

特點: ⼤學和研究實驗室; 聚合物和抗蝕劑表徵; 化學測量; 介電特性; ⽣物醫學; 光學鍍膜; 非⾦屬薄膜; 動態測量; 點選分析（無需初步猜測）; n & k、顏⾊測量; 多個裝置用於離線分析

介紹

FR‑ES是⼀款⼩巧輕便的裝置，用於對寬厚度範圍內的透明和半透明塗層以及薄⾦屬層進行無損表面特性量測。
使用 FR‑ES，使用者可以在各種光譜範圍內進行反射率和透射率測量。它適用於各種測量應用：薄膜厚度、折射率、顏⾊、透射率、反射率等等。

FR‑ES 提供五種配置：
UV/VIS (200-850nm),
UV/NIR-EXT (200-1000nm),
UV/NIR-HR (190-1100nm)
NIR-N1 (850-1050nm),
NIR (900-1700nm)

然後，還有各種各樣的配件，
例如：
▪用於阻擋特定光譜範圍內光線的濾光片
▪用於在非常小的區域進行測量的FR-Mic
▪手動載物台， 25x25mm、100x100mm 或 200x200mm
▪用於吸光度/反射率和化學濃度測量的光盤 /色皿

加入詢問車 (0) FR-ES介紹

型號	VIS/NIR		NIR	NIR-N1	D VIS/NIR	UV/VIS	UV/NIR-EXT	UV/NIR-HR
波長範圍(nm)	380 –1020		900 – 1700	850-1050	380-1700	200-850	200-1000	190-1100
像素	3648		512	3648	3748 & 512	3648	3648	2048
最小厚度(SiO₂)	12nm		50nm	1μm	12nm	1nm	1nm	1nm
最大厚度(SiO₂)	120μm		250μm	500μm	250μm	80μm	90μm	100μm
n&k -最小厚度	100nm		500nm		100nm	50nm	50nm	50nm
厚度-準確度**	2nm / 0.2%		3nm / 0.4%	50nm / 0.2%	2nm / 0.2%	1nm / 0.2%	1nm / 0.2%	1nm / 0.2%
厚度-精度**	0.05nm		0.1nm	0.1nm	0.05nm		0.05nm
厚度-穩定度**	0.05nm		0.15nm	0.15nm	0.05nm		0.05nm
API 支援	是		是	是	是	是	是	是
光源	鹵素（內建），3000 小時 (MTBF)					VIS/NIR 操作，鹵素（內建），3000 小時 (MTBF) UV/NIR 操作：LS‑2，氘‑鹵素，2000 ⼩時（MTBF）
積分時間	5msec (min)	0.5msec (min)		5msec (min)	5msec (min)	5msec (min)		1msec (min)
尺寸重量	FR-ES: 20 x 22 x 6 cm ( L x W x H ), 1.8Kg ( 不含stage ), FR-ES D: 20 x 27 x 12 cm ( L x W x H ), 3.3Kg ( 不含stage )
電源	110V/230V, 50-60Hz, 20-50W (LS-2, 不含外部光源)
光斑尺寸	直徑約 350-400 μm（可根據要求提供較小的光斑尺寸選項）
材料資料庫	> 800 種不同材料
軟體特性	FR‑Monitor v4.0（免費更新）完整軟體詳細資料列於相關⽬錄頁⾯

返回列表